Lugar de origen:
China
Nombre de la marca:
AMBER
Certificación:
CE
Número de modelo:
AM-ZR05
éntrenos en contacto con
Sitio limpio modular de los paneles de bocadillo con el panel inoxidable de la pared de la puerta deslizante ISO5-9 Teel
Estándares del recinto limpio
Clase |
Particles/m3 máximo |
FED STD 209E |
|||||
μm ≥0.1 |
μm ≥0.2 |
μm ≥0.3 |
μm ≥0.5 |
μm ≥1 |
μm ≥5 |
equivalente |
|
ISO 1 |
10b |
d |
d |
d |
d |
e |
|
ISO 2 |
100 |
24b |
10b |
d |
d |
e |
|
ISO 3 |
1.000 |
237 |
102 |
35b |
d |
e |
Clase 1 |
ISO 4 |
10.000 |
2.370 |
1.020 |
352 |
83b |
e |
Clase 10 |
ISO 5 |
100.000 |
23.700 |
10.200 |
3.520 |
832 |
d, e, f |
Clase 100 |
ISO 6 |
1.000.000 |
237.000 |
102.000 |
35.200 |
8.320 |
293 |
Clase 1.000 |
ISO 7 |
c |
c |
c |
352.000 |
83.200 |
2.930 |
Clase 10.000 |
ISO 8 |
c |
c |
c |
3.520.000 |
832.000 |
29.300 |
Clase 100.000 |
ISO 9 |
c |
c |
c |
35.200.000 |
8.320.000 |
293.000 |
Aire del sitio |
El panel de la pared/de techo | Tablero de bocadillo hecho a máquina o hecho a mano | |||
Equipo del sitio limpio | Ducha de aire, FFU, caja de paso, gabinete del flujo laminar, caja de HEPA | |||
Limpieza | Class100-100000 | |||
Sistema de la purificación | HVAC, o CA conditioner+FFU | |||
Piso | Piso antiestático del PVC o capa de epoxy-basada | |||
Otros accesorios | Ventana estalinista, luz del panel del LED, fregadero de la puerta, del lavado a mano, almacenamiento/gabinete etc del zapato | |||
Servicio | Diseño, fabricación, construcción |
Sitio limpio, también conocido como sitio limpio, sitio limpio o taller limpio. Es la base del control de la contaminación.
Sin un cuarto limpio libre de polvo, es imposible producir en masa piezas sensibles de la contaminación. En FED-STD-2,
un cuarto limpio libre de polvo se define como cuarto con la filtración del aire, distribución, optimización, materiales de construcción
y dispositivos, en los cuales las reglas y los procedimientos de funcionamiento específicos se utilizan para controlar la concentración de aerotransportado
partículas, para alcanzar un nivel apropiado de limpieza de la partícula
|
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